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J-GLOBAL ID：200903098875237115

超低反射光コネクターフェルールの研磨体

Inventor： 両毛 克己 ,  藤山 正昭 ,  石黒 忠
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995320407
Publication number (International publication number)：1997155748
Application date： Dec. 08, 1995
Publication date： Jun. 17, 1997
Summary：

【要約】【課題】 セラミックによるフェルールに光ファイバーを挿入固定してなる光コネクターフェルールの先端を凸状球面に研磨するのに使用する研磨体であって、表面平滑性および段差のない研磨を行って低反射による伝達効率の向上を図る。【解決手段】 可撓性支持体に研磨剤とバインダーからなる研磨層を設けてなり、研磨層の中心線平均表面粗さRaが0.01〜0.05μmで、バインダーにセルロース系樹脂を用いてなり、必要に応じて研磨微粒子を含むクーラント液を供給しつつ研磨を行う。

Claim (excerpt)：

フェルール穴に光ファイバーを挿入固定してなる光コネクターフェルールの先端を凸状球面に研磨するのに使用する研磨体であって、可撓性支持体に研磨剤とバインダーからなる研磨層を設けてなり、前記研磨層の中心線平均表面粗さRaが0.01〜0.05μmで、バインダーにセルロース系樹脂を用いたことを特徴とする超低反射光コネクターフェルールの研磨体。

IPC (4)：

B24D 11/00 ,  B24B 19/00 ,  B24D 3/28 ,  G02B 6/36

FI (4)：

B24D 11/00 A ,  B24B 19/00 J ,  B24D 3/28 ,  G02B 6/36