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J-GLOBAL ID：200903098885323893

有機EL素子及びその製造方法

Inventor： 平田 修造
Applicant, Patent owner： 株式会社フジクラ
Agent (4)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005099091
Publication number (International publication number)：2006278255
Application date： Mar. 30, 2005
Publication date： Oct. 12, 2006
Summary：

【課題】 発光に寄与しないキャリアの密度を低減できる構成を備えた有機EL素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る有機EL素子は、陽極13、ホール注入層14、有機発光層15、及び陰極18を順に重ねてなる積層体を少なくとも備えた有機EL素子10であって、有機発光層15と陰極18との間にバッファ層17を配してなり、このバッファ層17は析出金属からなることを特徴とする。その際、前記析出金属としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又はこれらの組合せが好ましい。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

陽極、ホール注入層、有機発光層、及び陰極を順に重ねてなる積層体を少なくとも備えた有機EL素子であって、 前記有機発光層と前記陰極との間にバッファ層を配してなり、該バッファ層は析出金属からなることを特徴とする有機EL素子。

IPC (4)：

H05B 33/26 ,  C09K 11/06 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (5)：

H05B33/26 Z ,  C09K11/06 680 ,  C09K11/06 690 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 B

F-Term (4)：

3K007AB03 ,  3K007CB04 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01