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J-GLOBAL ID：200903098891885348

高強度を有するITO薄膜形成用スパッタリングターゲット材の製造法

Inventor： 高階 啓幸
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 富田 和夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994312450
Publication number (International publication number)：1996144056
Application date： Nov. 22, 1994
Publication date： Jun. 04, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高強度を有するITO薄膜形成用スパッタリングターゲット材を製造する。【構成】 ITO薄膜形成用スパッタリングターゲット材を、Sn酸化物とIn酸化物からなるITO粉末成形体を、酸化性雰囲気に、H2 O2 、・OH、および 1O2 のうちの1種または2種以上を0.01〜5容量%の割合で配合してなる酸化性活性雰囲気中で焼結することにより製造する。

Claim (excerpt)：

Sn酸化物とIn酸化物からなるITO粉末成形体を酸化性雰囲気に、過酸化水素、ヒドロキシラジカル、および一重項酸素のうちの1種または2種以上を0.01〜5容量%の割合で配合してなる酸化性活性雰囲気中で焼結することを特徴とする高強度を有するITO薄膜形成用スパッタリングターゲット材の製造法。

IPC (6)：

C23C 14/34 ,  C04B 35/457 ,  C04B 35/495 ,  C04B 35/64 ,  C23C 14/08 ,  H01B 13/00 503

FI (3)：

C04B 35/00 R ,  C04B 35/00 J ,  C04B 35/64 A