レジストインク組成物、それを用いたレジスト膜及びプリント回路基板

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：安藤惇逸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993067456
Publication number (International publication number)：1994258830
Application date： Mar. 02, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：

【要約】【構成】 A.(a)下記の一般式〔I〕【化1】(式中、R1 は水素又はメチル基、R2 は水素又はアルキル基であり、nは1〜4の整数である)で表されるエチレン性不飽和単量体及び/又はグリセロールモノ(メタ)アクリレート5〜50重量%、(b)グリシジル(メタ)アクリレート10〜90重量%及び(c)これらと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体0〜80重量%を重合させて得られる共重合体に、該共重合体の1エポキシ当量当たり0.7〜1.2化学当量の(メタ)アクリル酸、及び飽和若しくは不飽和の多塩基酸無水物を反応させて得られる紫外線硬化性樹脂、B.光重合開始剤、C.希釈剤及びD.熱硬化性エポキシ化合物を含有してなる、希アルカリ水溶液で現像可能なレジストインク脂組成物。【効果】低露光量においてもパターン形成が可能で、解像性及び耐溶剤性に優れ、さらに組成物自体の分散安定性に優れ、高性能のレジスト膜及びプリント回路基板を製造することができる。

Claim (excerpt)：

A.(a)下記の一般式〔I〕【化1】(式中、R1 は水素又はメチル基、R2 は水素又はアルキル基であり、nは1〜4の整数である)で表されるエチレン性不飽和単量体及び/又はグリセロールモノ(メタ)アクリレート5〜50重量%、(b)グリシジル(メタ)アクリレート10〜90重量%及び(c)これらと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体0〜80重量%を重合させて得られる共重合体に、該共重合体の1エポキシ当量当たり0.7〜1.2化学当量の(メタ)アクリル酸、及び飽和若しくは不飽和の多塩基酸無水物を反応させて得られる紫外線硬化性樹脂、B.光重合開始剤、C.希釈剤及びD.熱硬化性エポキシ化合物を含有してなる、希アルカリ水溶液で現像可能なレジストインク組成物。

IPC (13)：

G03F 7/027 515 , G03F 7/027 502 , C08F 2/50 MDN , C08F299/00 MRN , C08F299/02 MRS , C09D 11/00 PTE , C09D 11/00 PTV , G03F 7/004 503 , G03F 7/028 , G03F 7/032 501 , G03F 7/038 501 , H01L 21/027 , H05K 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

特開平3-289656
特開昭60-119546
特開昭62-104817

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Cited by examiner (8)

特開平3-289656
特開平3-289656
特開昭60-119546

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