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J-GLOBAL ID：200903098936193620

低次酸化チタン含有粉体の製造方法

Inventor： 塩 庄一郎 ,  鈴木 福二
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994017904
Publication number (International publication number)：1994321540
Application date： Jan. 18, 1994
Publication date： Nov. 22, 1994
Summary：

【要約】【構成】 二酸化チタンと共に、還元剤としてアンモニア吸着物質を共存させ、低酸素濃度雰囲気下で還元焼成することを特徴とする低次酸化チタン含有粉体の製造方法。【効果】 効率よく、しかも還元剤と粉末との溶融による凝集を生じることなく、低次酸化チタン含有粉体を製造することができる。

Claim (excerpt)：

二酸化チタンと共に、アンモニア吸着物質を共存させ、低酸素濃度雰囲気下で還元焼成することを特徴とする低次酸化チタン含有粉体の製造方法。

IPC (5)：

C01G 23/04 ,  C01B 31/36 ,  C09C 1/36 PAT ,  C09C 1/36 PAV ,  C09D 17/00