Pat
J-GLOBAL ID:200903098936605082

水素ガス生成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 前田 弘 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999257196
Publication number (International publication number):2001080906
Application date: Sep. 10, 1999
Publication date: Mar. 27, 2001
Summary:
【要約】【課題】燃料改質器5において改質ガスのCO濃度を低減するとともに、改質反応維持のための外部加熱手段を不要にする。【解決手段】燃料改質器5に原燃料の部分酸化反応に対して活性を呈する触媒を設けるとともに、水蒸気を導入し、この燃料改質器5内において部分酸化反応と水性ガスシフト反応とを生ずるようにする。
Claim (excerpt):
炭化水素系の原燃料と酸素と水蒸気とによって水素を生成する水素ガス生成装置であって、上記原燃料の部分酸化反応に対して活性を呈する触媒(27)が設けられた燃料改質器(5)を備え、上記触媒上において上記部分酸化反応を生じ、該部分酸化反応によって生成するCOを反応物として水性ガスシフト反応を生ずるように、上記燃料改質器(5)に対する原燃料と酸素と水蒸気との供給割合は、該原燃料の炭素のモル数に対する酸素のモル数の比O2 /Cが上記部分酸化反応におけるO2 /C量論比の0.9倍以上となり、且つ該原燃料の炭素のモル数に対する水蒸気のモル数の比H2O /Cが0.5以上となるようにされていることを特徴とする水素ガス生成装置。
IPC (6):
C01B 3/38 ,  B01J 23/46 301 ,  B01J 23/46 311 ,  B01J 23/755 ,  C01B 3/48 ,  H01M 8/06
FI (6):
C01B 3/38 ,  B01J 23/46 301 M ,  B01J 23/46 311 M ,  C01B 3/48 ,  H01M 8/06 G ,  B01J 23/74 321 M
F-Term (23):
4G040EA03 ,  4G040EA06 ,  4G040EA07 ,  4G040EB16 ,  4G040EB23 ,  4G040EB32 ,  4G040EB43 ,  4G040EC01 ,  4G040EC03 ,  4G069AA15 ,  4G069BA01B ,  4G069BC70A ,  4G069BC70B ,  4G069BC71A ,  4G069BC71B ,  4G069CC17 ,  4G069CC32 ,  5H027AA06 ,  5H027BA01 ,  5H027BA09 ,  5H027BA10 ,  5H027BA16 ,  5H027BA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page