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J-GLOBAL ID：200903098942327310
レジストパターン欠陥の検出方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
鈴木 敏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992198317
Publication number (International publication number)：1994043110
Application date： Jul. 24, 1992
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：
【要約】【目的】 レジストパターン検査時に欠陥部位を分類する時間を短縮しその分類精度の向上を図る検査方法を提供する。【構成】 レジストパターン形成後にU励起光10等のフォトレジスト3だけから蛍光を発生させる波長の光をウェハ全面上部より垂直に照射し、レジストパターンを特定する。その後特定されたレジストパターンと形成されるべきレジストパターンとの相違点を検出する。またフォトマスク4を使用してU励起光10のフォトレジスト3だけから蛍光を発生させる波長の光を露光時と同様フォトマスク4上部より垂直に照射し、ポジ図形5以外の領域を通過したU励起光10を捕獲することによりレジストパターンの領域外にはみ出したレジストパターンを欠陥として特定する。
Claim (excerpt)：
レジストパターン形成後にウェハ全面に一定で直進性が高くかつ使用したレジストから蛍光を発生させる波長の光を前記レジストパターンの上部より垂直に照射するステップと、前記レジストから発生する蛍光のうちで最も強い波長の蛍光のみを捕獲し、捕獲された蛍光より画像を形成してレジストパターンを特定するステップと、特定された前記レジストパターンを形成されるべきレジストパターンと比較し相違点を欠陥として検出するステップとを有することを特徴とするレジストパターン欠陥の検出方法。
IPC (5)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G03F 1/08
, H01L 21/027
, H01L 21/66
