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J-GLOBAL ID：200903098977614568

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
青合 利明

About 青合 利明

, 
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998270041
Publication number (International publication number)：2000098613
Application date： Sep. 24, 1998
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：
【要約】【課題】 220nm以下の露光光源、特にArFエキシマレーザー光(193nm)の露光光源の使用時に、良好な感度、解像度を与え、更に十分な耐ドライエッチング性を有し、且つ基板との密着性が良好で、従来のレジストに使用していた現像液(例えば2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液)に対しても良好な現像性を示し、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定の脂環式基と架橋構造を有する繰り返し構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)下記一般式(I)及び(V)で表される繰り返し構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(I)、(V)中、R1、R3、R13、R15は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。R2 、R14は、各々独立に、水素原子、シアノ基、-CO-OR18、-CO-N(R19)(R20)を表す。X1、X4は、各々独立に、単結合あるいは、置換基を有していても良い2価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、もしくは-O-、-SO2 -、-O-CO-R21-、-CO -O-R22-、-CO-N(R23)-R24-を表す。R16、R17は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。またR16、R17が結合して環を形成しても良い。Xは、置換基を有していても良い2価の、アルキレン基、アルケニレン基、もしくはシクロアルキレン基、又はこれらアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基とエーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、ウレイド基の少なくとも1つの基とで形成した2価の基を表す。Yは多環型の脂環式基を表す。R18は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、もしくは酸分解性基を表す。R19、R20、R23は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基を表す。またR19、R20が結合して環を形成しても良い。R21、R22、R24は、各々独立に、単結合、又はエーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、ウレイド基を有しても良い、2価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基を表す。
IPC (7)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 8/14 ,  C08F 20/10 ,  C08L101/02 ,  C09D201/02 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (7)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 8/14 ,  C08F 20/10 ,  C08L101/02 ,  C09D201/02 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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