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J-GLOBAL ID：200903098980784415

セラミックス、セラミックス粉末の製造方法及びセラミックスの製造方法。

Inventor：
中村 良平

About 中村 良平


Applicant, Patent owner：
日立金属株式会社

About 日立金属株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000350213
Publication number (International publication number)：2001348273
Application date： Nov. 16, 2000
Publication date： Dec. 18, 2001
Summary：
【要約】【課題】 発光強度が大きく、減衰時定数及び残光が小さく、また、コストが比較的安価な透明セラミックシンチレータを提供すること。【解決手段】 一般式Gd3-xCexAlySizGa5-y-zO12[ただし、0.001≦x≦0.05、1≦y≦4、0.0015≦z≦0.03]で表されることを特徴とするセラミックスであり、混合後、1400〜1600°Cで仮焼してガーネット粉末を作成し、さらに、プレス成形後、5×104Pa以上の非還元性雰囲気において1600〜1700°Cの温度範囲で焼結し、また、アルゴン雰囲気1400〜1600°Cの温度で熱間静水圧プレス焼結を行い透明セラミックシンチレータとする製造方法。
Claim (excerpt)：
一般式Gd3-xCexAlySizGa5-y-zO12で表されることを特徴とするセラミックス。(ただし、0.001≦x≦0.05、1≦y≦4、0.0015≦z≦0.03)
IPC (6)：
C04B 35/50 ,  C09K 11/00 ,  C09K 11/08 ,  C09K 11/80 CPP ,  G01T 1/20 ,  G01T 1/202
FI (7)：
C04B 35/50 ,  C09K 11/00 E ,  C09K 11/08 B ,  C09K 11/08 E ,  C09K 11/80 CPP ,  G01T 1/20 B ,  G01T 1/202
F-Term (13)：
2G088EE01 ,  2G088EE29 ,  2G088FF02 ,  2G088GG10 ,  2G088JJ37 ,  4H001CA08 ,  4H001CF01 ,  4H001CF02 ,  4H001XA08 ,  4H001XA13 ,  4H001XA31 ,  4H001XA64 ,  4H001YA58
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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