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J-GLOBAL ID：200903099004053275
検量関係式の再校正法及び定量試験キット
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994306034
Publication number (International publication number)：1996015264
Application date： Dec. 09, 1994
Publication date： Jan. 19, 1996
Summary：
【要約】【目的】 分析に必要な校正回数を減らすための再校正法を提供する。【構成】 アナライト濃度とそれらの濃度に対応して分析装置が発生する信号との間の検量関係式を、予想信号値を有する濃度値について製造工場で作成された関係式を用いて、分析装置内で再校正する方法。
Claim (excerpt)：
アナライト濃度とそれらの濃度に対応して分析装置が発生する信号との間の検量関係式を、予想信号値Rexp をそれぞれ有するN個の濃度値について製造工場で作成された関係式を用いて、分析装置内で再校正する方法において、a)前記N個の濃度値とは独立であることができる低濃度と高濃度の少なくとも二つのキャリブレーター、それぞれC1 及びC2 、を選定する工程、b)これら二つのキャリブレーターの各々が前記分析装置内で発生する実測信号値Ract1及びRact2を確認する工程、c)N個の濃度のうち工程aの低濃度キャリブレーターよりも小さい値を示すもの(Ci )low と、N個の濃度のうち工程aの高濃度キャリブレーターよりも大きい値を示すもの(Ci )highとを確認する工程、d)製造工場で作成された関係式を用いて予想される濃度C1 及びC2 に対する予想信号値であるRexp1及びRexp2から、Ract1/Rexp1及びRact2/Rexp2の比率を得る工程、e)濃度値(Ci )low の各々に対する各信号(Rexp )low に比率Ract1/Rexp1を乗じることによって各濃度値(Ci )low の擬信号を、また濃度値(Ci )highの各々に対する各信号(Rexp )highに比率Ract2/Rexp2を乗じることによって各濃度値(Ci )highの擬信号を得る工程、f)C1 とC2 の間にある残りの濃度値の各々について、下式:PSremainder =(Ract2-Ract1)/(Rexp2-Rexp1)・(Rexpremainder-Rexp1)+Ract1に従い擬信号PSremainder を得る工程、g)工程e〜fで得られた擬信号とN個の濃度値との関係式を確認する工程、並びにh)N個の値間でデータ点に最もよく適合する曲線を提供して再校正関係式を得る工程を含む検量関係式の再校正法。
IPC (2)：
G01N 35/00
, G01N 33/543 501
