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J-GLOBAL ID：200903099078553032
アパーチャマスク及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993224366
Publication number (International publication number)：1995078748
Application date： Sep. 09, 1993
Publication date： Mar. 20, 1995
Summary：
【要約】【目的】 優れた寸法精度の電子ビームの成形用開口部分を持つ電子阻止能率の高いアパーチャマスクの製造方法を提供することにある。【構成】 キャラクタ・プロジェクション方式の電子ビーム描画装置に用いられるアパーチャマスクの製造方法において、Si基板21の一主面上にSiO2 膜23を形成したのち、SiO2 膜23上に導電膜としてTi膜24,Pd膜25を形成し、次いで重金属薄膜の鋳型材料として電子線用レジスト26を形成し、レジスト26を露光するのに必要な照射量を多数回の露光に分けて照射し、かつ各回の描画において互いのビームショットの境界が重ならないように露光することにより鋳型27を形成し、次いで鋳型27内に所望の厚さだけAu膜を成長させ、次いで鋳型27を除去したのち基板21を裏面側からエッチングしてAu膜28に設けられた開口が貫通するようしたことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
キャラクタ・プロジェクション方式の荷電ビーム描画装置に用いられるものであり、複数種の所望パターン形状の開口が形成され、荷電粒子ビームの選択的な照射によりいずれかのパターン形状のビームを成形するアパーチャマスクにおいて、荷電粒子ビームを成形するために使用するビームの遮断阻止膜に重金属薄膜を用いたことを特徴とするアパーチャマスク。
FI (2)：
H01L 21/30 541 B
, H01L 21/30 541 R
