Pat

J-GLOBAL ID：200903099094982539

有害ガスの除去方法及び装置

Inventor： 三好 紀臣 ,  新貝 和照 ,  笹本 利治 ,  川上 一美 ,  西方 聡
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 駒田 喜英
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993218029
Publication number (International publication number)：1994218234
Application date： Aug. 10, 1993
Publication date： Aug. 09, 1994
Summary：

【要約】【目的】有害ガスを光触媒との接触反応により除去する有害ガス除去方法において、活性が低下した光触媒の再生処理を容易にする。【構成】光触媒10を粒状にして反応容器12内を浮遊・流動させ、光源14からの光照射の下で入口15から出口18に向かって通過する有害ガスを含んだ空気と接触させる。有害ガスと反応して活性が低下した光触媒10は搬送ブロア11で再生器13に送り込んで水洗・乾燥し、再び反応容器12に戻す。このように、光触媒10を浮遊・流動させながら処理空気と接触させ、その後、この光触媒10を回収して再生処理することにより、反応容器12と再生器13とを分離することができ、反応容器12の壁面に固定した光触媒を水洗・乾燥する場合に比べて再生処理が容易となる。

Claim (excerpt)：

粒状にした光触媒と活性炭との混合物を浮遊・流動させながら有害ガスを含む空気と接触させることを特徴とする有害ガスの除去方法。

IPC (7)：

B01D 53/36 102 ,  B01D 53/36 ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 132 ,  B01J 23/74 ZAB ,  B01J 23/74 301