流路構造、流路基板並びに流体の制御方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡邊薫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008013674
Publication number (International publication number)：2009174995
Application date： Jan. 24, 2008
Publication date： Aug. 06, 2009
Summary：

【課題】複数の流路を用いて試料を処理するにあたり、高精度かつ効率よく処理できる流路構造を提供すること。【解決手段】試料を導入する試料導入部と、この試料を処理する処理部と、試料を排出する排出部と、を少なくとも備えた流路を、複数備えた流路構造であって、各流路は、試料導入部から導入された試料にシース液を導入するシース液導入部を備え、かつ流路とシース液導入部との合流部から処理部までの距離が、各流路において略等距離である流路構造とすること。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

試料を導入する試料導入部と、前記試料を処理する処理部と、試料を排出する排出部と、を少なくとも備えた流路を、複数備えた流路構造であって、前記流路は、前記試料導入部から導入された試料にシース液を導入するシース液導入部を少なくとも備え、前記流路と前記シース液導入部との合流部から前記処理部までの距離が、各流路において略等距離である流路構造。

IPC (3)：

G01N 35/10 , G01N 37/00 , G01N 35/02

FI (3)：

G01N35/06 A , G01N37/00 101 , G01N35/02 D

F-Term (2)：

2G058EA03 , 2G058FA07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

分析装置および分析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-096195 Applicant：東亜ディーケーケー株式会社, タマティーエルオー株式会社, 株式会社クボタ

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