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J-GLOBAL ID:200903099111767027

固定化方法、固定化装置および微小構造体製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (8): 杉村 興作 ,  高見 和明 ,  徳永 博 ,  岩佐 義幸 ,  藤谷 史朗 ,  来間 清志 ,  冨田 和幸 ,  藤原 英治
Gazette classification:再公表公報
Application number (International application number):JP2004001945
Publication number (International publication number):WO2004074172
Application date: Feb. 19, 2004
Publication date: Sep. 02, 2004
Summary:
少なくとも1つの目的物質を含む溶液をキャピラリーに供給し、前記溶液に電圧を印加して静電噴霧するエレクトロスプレイステップと、前記エレクトロスプレイステップで噴霧された溶液中の目的物質の機能性および/または活性を保持したままほぼ乾燥した状態、かつ、ナノメートルオーダーの厚さで任意の形状の被塗物に静電気力で固定化する固定化ステップとを含む固定化方法、装置、及び微小構造体製造方法を提供する。
Claim (excerpt):
少なくとも1つの目的物質を含む溶液をキャピラリーに供給し、前記溶液に電圧を印加して静電噴霧するエレクトロスプレイステップと、 前記エレクトロスプレイステップで噴霧された溶液中の目的物質をその機能性および/または活性を保持したまま乾燥した状態で任意の形状の被塗物に静電気力で固定化して、ナノメートルオーダーの厚さの乾燥した微小構造体を形成する固定化ステップと、 を含む固定化方法。
IPC (5):
B05D 1/04 ,  B01J 19/08 ,  B05B 5/035 ,  B05B 13/02 ,  B82B 3/00
FI (5):
B05D1/04 Z ,  B01J19/08 F ,  B05B5/035 ,  B05B13/02 ,  B82B3/00
F-Term (27):
4D075AA09 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB56X ,  4D075BB81Z ,  4D075BB92Z ,  4D075DA06 ,  4D075DA10 ,  4D075DA11 ,  4D075DB20 ,  4D075DB31 ,  4F034AA10 ,  4F034BA01 ,  4F034BB11 ,  4F035CB01 ,  4F035CC01 ,  4F035CD03 ,  4F035CD08 ,  4G075AA24 ,  4G075BB10 ,  4G075CA14 ,  4G075DA02 ,  4G075EC01 ,  4G075FB02 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4G075FB20 ,  4G075FC11

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