Pat
J-GLOBAL ID:200903099116300046
微細パターン及びその母型を形成する方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊東 忠彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003028273
Publication number (International publication number):2004237526
Application date: Feb. 05, 2003
Publication date: Aug. 26, 2004
Summary:
【課題】本発明は、従来よりも広い領域に均一かつ高密度で形成された凹凸形状を有する微細構造パターンを形成する方法、及びその母型を形成する方法を提供することである。【解決手段】本方法は、所定の基板上に、多数のプラスチック粒子を配列させる配列工程と、前記基板上及び前記プラスチック粒子どうしの隙間に、所定の金属元素を析出させるめっき工程と、前記プラスチック粒子を有機溶剤に溶解させる工程を有する微細パターンの形成方法である。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
所定の基板上に、多数のプラスチック粒子を配列させる配列工程と、
前記基板上及び前記プラスチック粒子どうしの隙間に、所定の金属元素を析出させるめっき工程と、
前記プラスチック粒子を有機溶剤に溶解させる工程
を有することを特徴とする微細パターンの形成方法。
IPC (6):
B29C33/38
, C25D1/00
, C25D1/10
, C25D5/02
, C25D7/00
, G11B5/84
FI (7):
B29C33/38
, C25D1/00 321
, C25D1/10
, C25D5/02 B
, C25D7/00 K
, C25D7/00 S
, G11B5/84 Z
F-Term (31):
4F202AF01
, 4F202AG05
, 4F202AH38
, 4F202AH79
, 4F202AJ02
, 4F202AJ09
, 4F202CA11
, 4F202CA30
, 4F202CB01
, 4F202CD12
, 4F202CD23
, 4K024AA01
, 4K024AA02
, 4K024AB08
, 4K024AB15
, 4K024AB19
, 4K024BA15
, 4K024BB14
, 4K024DB10
, 4K024FA23
, 4K024GA16
, 5D112AA02
, 5D112AA03
, 5D112AA05
, 5D112AA18
, 5D112AA24
, 5D112BA03
, 5D112BA09
, 5D112BA10
, 5D112BB01
, 5D112CC05
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