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J-GLOBAL ID：200903099119704580

電子線レジスト組成物

Inventor： 宮部 将典 ,  小林 政一 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992154128
Publication number (International publication number)：1993323609
Application date： May. 22, 1992
Publication date： Dec. 07, 1993
Summary：

【要約】【構成】 一般式【化1】(式中のn及びmは、0.6≦n/(m+n)≦0.9の関係を満たす数である)で表わされるアルカリ可溶性ラダーシリコン重合体と、アルコキシメチル化メラミン樹脂と、トリスジブロモプロピレンイソシアヌレートとを含有して成る電子線レジスト組成物である。【効果】 画像コントラスト及び断面形状に優れたレジストパターンを形成でき、有機アルカリ水溶液により現像可能で、スカムを生じない。特に半導体素子の製造分野における多層プロセス法の上層に好適に用いられる。

Claim (excerpt)：

(A)一般式【化1】(式中のn及びmは、0.6≦n/(m+n)≦0.9の関係を満たす数である)で表わされるアルカリ可溶性ラダーシリコーン重合体と、(B)アルコキシメチル化メラミン樹脂と、(C)トリスジブロモプロピレンイソシアヌレートとを含有して成る電子線レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/26 511 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 R ,  H01L 21/30 361 S