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J-GLOBAL ID：200903099138183612

高分子電解質膜及びその製造方法

Inventor： 松田 愛子 ,  溝口 晃
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001166353
Publication number (International publication number)：2002358978
Application date： Jun. 01, 2001
Publication date： Dec. 13, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 成膜性に優れ、イオン交換基容量が大きく、機械的強度と水の保持力に優れたスルホン化ポリイミドからなり、固体高分子型燃料電池のイオン交換膜として好適な高分子電解質膜とその製造方法を提供する。【解決手段】 (式中、Ar1は、少なくとも1つのスルホン酸基によって置換されている二価の有機基である。)で表わされる構造単位を含む重合体ブロック(A)と、一般式(II)(式中、Ar2は、スルホン酸基を持たない二価の有機基である。)で表わされる構造単位を含む重合体ブロック(B)とを5:95〜95:5のモル比(A:B)で含有するブロック共重合スルホン化ポリイミドから形成されている高分子電解質膜及びその製造方法。

Claim (excerpt)：

下記式(I)【化1】(式中、Ar1は、少なくとも1つのスルホン酸基によって置換されている二価の有機基である。)で表わされる構造単位〔I〕を含む重合体ブロック(A)と、下記式(II)【化2】(式中、Ar2は、スルホン酸基を持たない二価の有機基である。)で表わされる構造単位〔II〕を含む重合体ブロック(B)とを5:95〜95:5のモル比(A:B)で含有するブロック共重合スルホン化ポリイミドから形成されている高分子電解質膜。

IPC (5)：

H01M 8/02 ,  C08G 73/10 ,  C08J 5/22 101 ,  H01M 8/10 ZAB ,  C08L 79:08

FI (5)：

H01M 8/02 P ,  C08G 73/10 ,  C08J 5/22 101 ,  H01M 8/10 ZAB ,  C08L 79:08 Z

F-Term (45)：

4F071AA60 ,  4F071AF15 ,  4F071AF21 ,  4F071AF36 ,  4F071AF39 ,  4F071AH12 ,  4F071AH19 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F071BC12 ,  4F071BC17 ,  4F071FA05 ,  4F071FB01 ,  4F071FC01 ,  4J043PA09 ,  4J043PC185 ,  4J043PC186 ,  4J043QB15 ,  4J043QB26 ,  4J043QB31 ,  4J043RA02 ,  4J043RA04 ,  4J043RA35 ,  4J043SA06 ,  4J043SA47 ,  4J043SA82 ,  4J043SB03 ,  4J043TA22 ,  4J043TA71 ,  4J043TB01 ,  4J043UA131 ,  4J043UA262 ,  4J043UB121 ,  4J043UB401 ,  4J043VA041 ,  4J043ZA41 ,  4J043ZB14 ,  5H026AA06 ,  5H026BB08 ,  5H026BB10 ,  5H026CX05 ,  5H026EE18 ,  5H026HH00 ,  5H026HH05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• スルホン化ポリイミド、膜及び燃料電池
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平9-539597   Applicant：コミッサリアタレネルジーアトミーク, セントルナショナルドゥラルシェルシュシアンティフィック