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J-GLOBAL ID：200903099193049178

パターン染色物の製造方法

Inventor： 陶山 寛志 ,  角岡 正弘
Applicant, Patent owner： 日本写真印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994191168
Publication number (International publication number)：1996035184
Application date： Jul. 20, 1994
Publication date： Feb. 06, 1996
Summary：

【要約】【目的】 多くの色を染色する場合においても、高解像度を保ちながら工程数が少ないパターン染色物の製造方法を得る。【構成】 光照射によりアミノ基が生成する官能基を有する高分子物質を有効成分として含有する薄膜に部分的な光照射をして部分的にアミノ基を生成させ、次いで、発色団基を有するとともにアミノ基と共有結合する化合物を前記薄膜中のアミノ基と反応させることにより、光照射部のみを選択的に染色する。

Claim (excerpt)：

光照射によりアミノ基が生成する官能基を有する高分子物質を有効成分として含有する薄膜に部分的な光照射をして部分的にアミノ基を生成させ、次いで、発色団基を有するとともにアミノ基と共有結合する化合物を前記薄膜中のアミノ基と反応させることにより、光照射部のみを選択的に染色することを特徴とするパターン染色物の製造方法。

IPC (5)：

D06P 5/00 122 ,  D06P 5/00 123 ,  D06P 5/20 ,  G02B 5/20 101 ,  G03C 1/73