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J-GLOBAL ID:200903099215377727
混合クリーニングガス組成物
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
坂本 栄一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992329680
Publication number (International publication number):1994172753
Application date: Dec. 09, 1992
Publication date: Jun. 21, 1994
Summary:
【要約】【目的】HFガスとClF3 ガスの混合ガスを使用して、シリコンエピタキシャル成長装置における反応器内部、治具、配管等に付着、堆積したシリコンおよびシリコン酸化物をクリーニング処理する混合ガス組成物を提供する。【構成】エピタキシャル薄膜形成装置または該装置の治具、配管等に堆積したシリコンおよびシリコン酸化物を除去する際、特に式(I)で求められる範囲の混合クリーニングガス組成物とする。
Claim (excerpt):
エピタキシャル成長装置のクリーニングにおいて、一般式(I)【数1】で示す範囲のHFガスとClF3 ガスを含む混合クリーニングガス組成物。
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