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J-GLOBAL ID：200903099215377727

混合クリーニングガス組成物

Inventor： 毛利 勇 ,  藤井 正 ,  小林 義幸
Applicant, Patent owner： セントラル硝子株式会社
Agent (1)： 坂本 栄一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992329680
Publication number (International publication number)：1994172753
Application date： Dec. 09, 1992
Publication date： Jun. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】HFガスとClF3 ガスの混合ガスを使用して、シリコンエピタキシャル成長装置における反応器内部、治具、配管等に付着、堆積したシリコンおよびシリコン酸化物をクリーニング処理する混合ガス組成物を提供する。【構成】エピタキシャル薄膜形成装置または該装置の治具、配管等に堆積したシリコンおよびシリコン酸化物を除去する際、特に式(I)で求められる範囲の混合クリーニングガス組成物とする。

Claim (excerpt)：

エピタキシャル成長装置のクリーニングにおいて、一般式(I)【数1】で示す範囲のHFガスとClF3 ガスを含む混合クリーニングガス組成物。