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J-GLOBAL ID：200903099221149922

パルス的な殺菌剤処理によるプラズマ殺菌方法

Inventor： ロス エイ. カプト ,  カーン エイ. モルトン ,  ブライアント エイ. カンブル
Applicant, Patent owner： アブトックス インコーポレイテッド
Agent (1)： 井ノ口 壽
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991246651
Publication number (International publication number)：1993317390
Application date： Aug. 30, 1991
Publication date： Dec. 03, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 低い圧力で、低い温度で容器の品質を破壊することなく容器の中に収容されている物品を効果的に殺菌することができる殺菌方法の提供。【構成】 殺菌室4の中の物品は少なくとも1つの結合殺菌サイクルに曝露される。各々の殺菌サイクルはガス状の殺菌剤のパルス状の処理とガス状の殺菌剤の除去とプラズマ処理を含む。処理は1またはそれ以上のパルス-真空サイクルを含み、殺菌室を排気する工程と一定の圧力波形で一定の期間殺菌剤に物品を曝露する工程を含む。ガス状の殺菌剤は好ましくは無反応性のキャリアガスにより運ばれる。パルス処理の後で殺菌剤は殺菌室を排気することにより除去される。プラズマ処理は物品を実質的に電荷を含まない高い反応性を持つ自由基に曝露する工程を含む。

Claim (excerpt)：

殺菌室内における物品を少なくとも1つの組み合わせ殺菌サイクルに露出するプラズマ殺菌方法であって、ガス状の殺菌剤によるパルス的な処理であって,前記パルス的な処理は1または1以上のパルス-真空サイクルを含み,各々のパルス-真空サイクルは殺菌室を排気するステップと物品を前記ガス状の殺菌剤に一定期間曝露するステップを含むパルス的な処理工程と、前記殺菌剤を前記パルス的な処理の後に殺菌室を排気することにより取り除く殺菌剤除去工程と、プラズマ処理は実質的にアルゴン,ヘリウム,窒素,酸素,水素とそれらの混合物からなるガスから生成したプラズマの流れに曝露するものであって、前記プラズマは,離れたプラズマ発生室により発生させられ殺菌室内の物品を殺菌するために供給されるプラズマ処理工程からなるパルス的な殺菌剤処理によるプラズマ殺菌方法。