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J-GLOBAL ID：200903099223272730

貴金属細孔体及びその製造方法

Inventor： 浅井 道博 ,  加納 博文 ,  金子 克美
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団
Agent (1)： 小倉 亘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002023966
Publication number (International publication number)：2003221601
Application date： Jan. 31, 2002
Publication date： Aug. 08, 2003
Summary：

【要約】【目的】 ナノシリカ集合体を鋳型(分散媒)に使用することにより、比表面積が大きなナノ細孔構造をもつ貴金属細孔体を得る。【構成】 一次粒径がナノメータオーダのシリカ微粒子の集合体に貴金属化合物を分散吸着させ、貴金属化合物を貴金属に還元した後、シリカ微粒子を溶解除去することにより製造される。シリカ微粒子の痕跡としてナノメータオーダの微細孔が内部に形成されたナノ細孔構造をもっているので、Pt,Pd,Rh等の貴金属本来の活性作用が効果的に活用され、高機能の触媒,吸着剤,ガス吸蔵材,選択透過膜等として使用される。

Claim (excerpt)：

シリカ微粒子の集合体にナノメータオーダで分散吸着させた貴金属化合物を還元して得られた貴金属からなり、前記シリカ微粒子の痕跡としてナノメータオーダの微細孔が内部に形成されていることを特徴とする貴金属細孔体。

IPC (6)：

B22F 1/00 ,  B01D 71/02 500 ,  B01J 20/02 ,  B01J 35/04 ,  B01J 35/04 331 ,  B22F 9/20

FI (8)：

B22F 1/00 K ,  B01D 71/02 500 ,  B01J 20/02 A ,  B01J 20/02 B ,  B01J 35/04 D ,  B01J 35/04 331 A ,  B01J 35/04 331 B ,  B22F 9/20 Z

F-Term (45)：

4D006GA41 ,  4D006KB12 ,  4D006MA21 ,  4D006MB04 ,  4D006MC02X ,  4D006NA01 ,  4D006PB63 ,  4G066AA02B ,  4G066AA22A ,  4G066AA22C ,  4G066AA28A ,  4G066AB07A ,  4G066BA26 ,  4G066CA27 ,  4G066FA03 ,  4G066FA12 ,  4G066FA21 ,  4G066FA40 ,  4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02C ,  4G069BC69A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC72B ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069DA05 ,  4G069EB11 ,  4G069EC02Y ,  4G069EC18X ,  4G069FA01 ,  4G069FB14 ,  4G069FB34 ,  4G069FB43 ,  4G069FB48 ,  4G069FC03 ,  4K017AA02 ,  4K017BA02 ,  4K017CA09 ,  4K017DA09 ,  4K017EH00 ,  4K018BA01 ,  4K018BB10 ,  4K018BD10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開平2-054704