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J-GLOBAL ID:200903099226786750
X線発生装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
青木 秀實 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995148081
Publication number (International publication number):1996115798
Application date: May. 22, 1995
Publication date: May. 07, 1996
Summary:
【要約】【目的】 非回転式で、冷却効率に優れ、大きな出力の得られる対陰極を具えたX線発生装置を提供する。【構成】 電子線を照射することによってX線を発生するターゲット(充填部4)が、ダイヤモンド基板1を貫通するように配置されている。これにより、ターゲットで発生した熱がダイヤモンド基板1を介して十分に放散されるため、対陰極を回転させる必要はなく、高出力のX線を安定して得ることができる。
Claim (excerpt):
高熱伝導性基板と電子線を照射することによってX線を発生するターゲットとを具える対陰極を有し、前記ターゲットは前記高熱伝導性基板を貫通するように配置されたことを特徴とするX線発生装置。
IPC (3):
H05G 1/00
, G21K 5/08
, H05G 1/02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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無機化合物/金属薄膜二層構造X線対陰極
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-168571
Applicant:科学技術庁無機材質研究所長
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特開昭54-004089
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特開昭50-056195
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