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J-GLOBAL ID：200903099232970962
酸化チタン薄膜の製法並びに該薄膜を用いた光化学反応器の製法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991219992
Publication number (International publication number)：1993059562
Application date： Aug. 30, 1991
Publication date： Mar. 09, 1993
Summary：
【要約】【構成】 チタン有機化合物、水、酸およびアルコールを含むチタンゾル(但し、チタン濃度が0.1〜2mol/l、水/チタンのモル比が0.1〜10、水/酸の当量比が2〜40である。)を基板面に塗布、焼成を繰り返すことにより得られる酸化チタン薄膜の1回の塗布,焼成により形成する膜厚を0.05〜0.1μmとすることを特徴とする酸化チタン薄膜の製法。【効果】 光エネルギーの吸収効率がよい酸化チタン薄膜が得られるため変換効率のよい光化学反応器を提供することができる。
Claim (excerpt)：
チタン有機化合物、水、酸およびアルコールを含むチタンゾル(但し、チタン濃度が0.1〜2mol/l、水/チタンのモル比が0.1〜10、水/酸の当量比が2〜40である。)を基板面に塗布,焼成を繰り返すことにより得られる酸化チタン薄膜の1回の塗布,焼成により形成する膜厚を0.05〜0.1μmとすることを特徴とする酸化チタン薄膜の製法。
IPC (4)：
C23C 18/12
, B01J 35/02
, C01G 23/04
, H01M 14/00
