プラズマ化学エッチング装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：坂間暁 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992222816
Publication number (International publication number)：1994069160
Application date： Aug. 21, 1992
Publication date： Mar. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】大形で良質のエッチングが得られるプラズマ化学エッチング装置を得る。【構成】石英ガラス窓23を持つ真空容器21、同窓に対向して、真空容器内に配置される基板22、窓23に対向して真空容器外に設けられるアンテナ型放電用電極24、同電極に電力を供給する高周波電源26とを設ける。このように容器外部に電極を設け高周波電波で励起し良質で大形のエッチングを得る。

Claim (excerpt)：

誘電体製の窓を持つ真空容器と、同窓に対向して、同真空容器内に配置される基板と、上記窓に対向して上記真空容器外に設けられるアンテナ型放電手段と、同アンテナ型放電手段に電力を供給する高周波電源とを備えてなることを特徴とするプラズマ化学エッチング装置。

IPC (3)：

H01L 21/302 , C23F 4/00 , C30B 33/12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平2-235332
特開平1-140723
特開平4-099876

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