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J-GLOBAL ID：200903099261178860

異物検査方法および装置

Inventor： 井上 裕子 ,  井古田 まさみ ,  大鋸谷 薫 ,  田口 順一 ,  杉本 有俊
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立電子エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 筒井 大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998006620
Publication number (International publication number)：1999201909
Application date： Jan. 16, 1998
Publication date： Jul. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】 異物検査においてブルーミングの発生を低減して異物検出の信頼性を向上させる。【解決手段】 半導体ウエハ1を支持するステージ7と、半導体ウエハ1にレーザ光4を照射する光源5を備えた光学系6と、半導体ウエハ1上のパタン3に対応させて遮断膜が形成された回折光遮断フィルタ13と、半導体ウエハ1からの反射光8を2つに分割するビームスプリッタ11と、分割後の一方の反射光8のTDIセンサ9への進入光量を調節するNDフィルタ12と、分割後の2つの反射光8を検出する2つのTDIセンサ9と、2つのTDIセンサ9によって検出された2つの反射光8の信号を加算する加算回路10と、加算回路10による加算信号を予め登録された基準信号と比較し、比較結果が許容範囲を越えた際に反射光8が異物2によるものと判定する差分回路16および比較回路17とからなる。

Claim (excerpt)：

被検査物に付着した異物を検出する異物検査方法であって、前記被検査物に光を照射してその反射光を複数に分割する工程と、前記分割された複数の反射光にそれぞれ対応させた複数の光検出手段によってそれぞれの反射光を検出する工程と、前記複数の光検出手段によって検出されたそれぞれの反射光の信号を加算し、この加算された前記反射光の加算信号を予め登録された基準信号と比較する工程とを有し、前記比較による比較結果が許容範囲を越えた際に前記反射光が前記異物によるものと判定して前記異物を検出することを特徴とする異物検査方法。

IPC (2)：

G01N 21/88 ,  H01L 21/66

FI (3)：

G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 Z