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J-GLOBAL ID:200903099273721179
粒状スペーサ散布密度測定装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997210341
Publication number (International publication number):1999051842
Application date: Aug. 05, 1997
Publication date: Feb. 26, 1999
Summary:
【要約】【目的】 短時間で粒状スペーサの散布状態を把握することが可能な粒状スペーサ散布密度測定装置を提供する。【構成】 粒状スペーサ2を表面に散布した基板3に所定角度で光を照射する照光手段1と、上記一方の基板3からの散乱光を受光し光電変換する光電変換手段5と、上記光電変換手段5で得られた電気信号を階層化された輝度に変換する輝度処理手段6とからなることを特徴とする散布密度測定装置。
Claim (excerpt):
対基板間に配設される多数の粒状スペーサを表面に散布した前記一方の基板に所定角度で光を照射する照光手段と、前記一方の基板からの散乱光を受光し光電変換する光電変換手段と、該光電変換手段で得られた電気信号を階層化された輝度に変換する輝度処理手段とからなることを特徴とする粒状スペーサ散布密度測定装置。
IPC (3):
G01N 15/00
, G01N 21/47
, G02F 1/1339 500
FI (3):
G01N 15/00 A
, G01N 21/47 E
, G02F 1/1339 500
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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粒子計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-334269
Applicant:株式会社東芝, 東京電子工業株式会社
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粒子凝集検出除去装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-182561
Applicant:シャープ株式会社
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特開平2-136732
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特開昭63-269043
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液晶表示素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-168361
Applicant:株式会社日立製作所
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特開平3-006440
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