Pat

J-GLOBAL ID：200903099279603500

ビス(ヒドロキシベンジル)ベンゼン類、そのエポキシ樹脂、およびそれらの製造方法

Inventor： 山口 桂三郎 ,  浦上 達宣 ,  石原 裕子 ,  山口 彰宏
Applicant, Patent owner： 三井東圧化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994000325
Publication number (International publication number)：1995196568
Application date： Jan. 06, 1994
Publication date： Aug. 01, 1995
Summary：

【要約】【構成】 フェノールまたはクレゾール類と、アラルキル化合物を、反応して得られるフェノールアラルキル樹脂組成物から、真空蒸留する一般式(III)で表されるビス(ヒドロキシベンジル)ベンゼン類の製造法、および、これから得られるエポキシ樹脂。【効果】 蒸留時の分解を抑え、高純度、高収率で、有用なビスフェノール化合物を得る方法、及び、作業性、機械的物性に優れたエポキシ樹脂を提供する。

Claim (excerpt)：

フェノールまたはクレゾール類と一般式(I)(化1)で表されるアラルキル化合物を、酸触媒の存在下で反応させて得られる一般式(II)(化3)で表されるフェノールアラルキル樹脂組成物から、酸触媒成分を除去または失活させた後、真空蒸留することを特徴とする一般式(III)(化2)で表されるビス(ヒドロキシベンジル)ベンゼン類の製造方法。【化1】(式中、Xはハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基を示す)【化2】(式中、Rは水素原子またはメチル基を示し、nは0〜50までの整数である)【化3】(式中、Rは水素原子またはメチル基を示す)

IPC (6)：

C07C 39/15 ,  B01J 31/02 103 ,  C07C 37/52 ,  C08G 59/06 NHJ ,  C08G 83/00 NUW ,  C07B 61/00 300

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• エポキシ樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-261847   Applicant：三井東圧化学株式会社

Cited by examiner (1)

• エポキシ樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-261847   Applicant：三井東圧化学株式会社