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J-GLOBAL ID：200903099312952302

電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置

Inventor： 今岡 孝之
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社 ,  株式会社フロンテック
Agent (1)： 細井 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996303627
Publication number (International publication number)：1998128254
Application date： Oct. 29, 1996
Publication date： May. 19, 1998
Summary：

【要約】【課題】 LSI等の電子部品部材類の製造時等において、シリコンウエハ等の表面に付着した有機物を除去するための従来法では、洗浄に使用する薬品や洗浄後のすすぎのための超純水が多量に必要となり、また使用済みの薬品や超純水を多量に処理しなければならないため、製造コストが高くつくという問題があった。本発明は、薬品や超純水コストや使用済みの薬品や超純水処理コスト等の低減化に貢献でき、確実且つ容易に電子部品部材類を洗浄することのできる洗浄方法及び洗浄装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明方法は、超純水にオゾンガスを溶解してなる正の酸化還元電位を有するアルカリ性洗浄液により、電子部品部材類を洗浄することを特徴とするもので、本発明洗浄装置は超純水製造装置1と、超純水中にオゾンガスを溶解させるためのガス溶解槽2と、溶液をアルカリ性に調整するためのpH調整装置3と、超純水にオゾンガスを溶解した正の酸化還元電位を有するアルカリ性洗浄液で電子部品部材類6を洗浄する洗浄槽4とから構成される。

Claim (excerpt)：

電子部品部材類を、超純水にオゾンガスを溶解せしめてなり、且つ正の酸化還元電位を有するアルカリ性洗浄液により洗浄することを特徴とする電子部品部材類の洗浄方法。

IPC (3)：

B08B 3/08 ,  B08B 3/12 ,  H01L 21/304 341

FI (3)：

B08B 3/08 Z ,  B08B 3/12 A ,  H01L 21/304 341 L