Pat
J-GLOBAL ID:200903099354216592

排水処理装置及び方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長谷川 芳樹 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000070510
Publication number (International publication number):2001252679
Application date: Mar. 14, 2000
Publication date: Sep. 18, 2001
Summary:
【要約】【課題】 処理水質の低下を十分防止でき、且つ装置を十分コンパクトにすることができる排水処理装置及び方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、処理槽4内の被処理水2を好気処理する排水処理装置10において、処理槽4にその深さ方向に沿った流路8a及び流路8bを形成する仕切部材6、流路8a内の被処理水2を曝気して好気処理を行うと共に、流路8a,8bに被処理水2の上昇流及び下降流をそれぞれ形成する曝気手段12、被処理水2から処理水を分離する膜18と、被処理水2中のグラニュール汚泥5を備える。この場合、曝気手段12により処理槽4内で被処理水2の循環流が形成され膜18によって被処理水2から処理水が分離される間、被処理水2中でグラニュール汚泥5が成長し、被処理水2が好気処理されて微細な活性汚泥が発生するが、本発明では、かかる微細な活性汚泥の流出を十分防止できる。
Claim (excerpt):
処理槽内の被処理水を好気処理する排水処理装置において、前記処理槽にその深さ方向に沿い且つ相互に連通する第1流路及び第2流路を形成する仕切部材と、前記第1流路内の被処理水を曝気することにより好気処理を行うと共に、前記第1流路に被処理水の上昇流を形成し、前記第2流路に被処理水の下降流を形成する曝気手段と、前記被処理水から処理水を分離する膜を持つ膜分離手段と、前記被処理水中に含まれるグラニュール汚泥と、を備えることを特徴とする排水処理装置。
IPC (3):
C02F 3/12 ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 ZAB
FI (5):
C02F 3/12 S ,  C02F 3/12 A ,  C02F 3/12 B ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 ZAB K
F-Term (18):
4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA41 ,  4D006JA31A ,  4D006KA43 ,  4D006KB22 ,  4D006KC14 ,  4D006MA01 ,  4D006MA03 ,  4D006PB08 ,  4D006PC62 ,  4D028AB00 ,  4D028BC17 ,  4D028BC26 ,  4D028BD17 ,  4D028CA00 ,  4D028CB02

Return to Previous Page