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J-GLOBAL ID:200903099362574147
複合酸化物薄膜及びその製造法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
友松 英爾 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992353219
Publication number (International publication number):1994171939
Application date: Dec. 11, 1992
Publication date: Jun. 21, 1994
Summary:
【要約】【目的】 本発明の目的は、エレクトロニクスの分野で使用される高品位の結晶化複合酸化物薄膜および該結晶化複合酸化物薄膜の製造法の提供にある。【構成】 結晶化複合酸化物薄膜が、該薄膜の結晶化前のアモルファス状または微結晶状薄膜の組成に比し、ずれを補充する組成のもので構成されていることを特徴とする結晶化複合酸化物薄膜および該結晶化複合酸化物薄膜の製造法。
Claim (excerpt):
結晶化複合酸化物薄膜が、該薄膜の結晶化前のアモルファス状または微結晶状薄膜の組成に比し、ずれを補充する組成のもので構成されていることを特徴とする結晶化複合酸化物薄膜。
IPC (4):
C01G 23/00
, B01J 19/00
, C01G 29/00
, H01L 41/24
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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特開平2-192403
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強誘電体薄膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-240908
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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