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J-GLOBAL ID：200903099382426071

ポリアリーレンおよびその製造方法

Inventor： 山川 芳孝 ,  樋上 誠
Applicant, Patent owner： JSR株式会社
Agent (3)： 大渕 美千栄 ,  布施 行夫 ,  井上 一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003275409
Publication number (International publication number)：2005036125
Application date： Jul. 16, 2003
Publication date： Feb. 10, 2005
Summary：

【課題】 スルホン酸基を有するポリアリーレンの合成に使用可能な、ポリアリーレンおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明のポリアリーレンは、下記一般式(1)で表される構成単位を含む。【化1】 〔式中、X,Yは2価の有機基または直接結合を示し、Zは酸素原子または硫黄原子を示し、Rは水素原子、または炭素原子数1〜20の炭化水素基を示し、nは1〜5の整数、pは0〜10の整数を示す。〕【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表される構成単位を含む、ポリアリーレン。

IPC (1)：

C08G61/00

FI (1)：

C08G61/00

F-Term (14)：

4J032CA01 ,  4J032CB01 ,  4J032CB03 ,  4J032CB12 ,  4J032CC01 ,  4J032CD02 ,  4J032CD07 ,  4J032CE03 ,  4J032CG01 ,  5G301CA30 ,  5G301CD01 ,  5H026AA06 ,  5H026CX05 ,  5H026EE18