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J-GLOBAL ID：200903099404507313

高分子材料中の添加剤分析方法

Inventor： 佐伯 和光 ,  石黒 智明 ,  水野 渡
Applicant, Patent owner： 富山県
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002212047
Publication number (International publication number)：2004053440
Application date： Jul. 22, 2002
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：

【課題】高分子材料に含まれる添加剤の定性分析又は定量分析を簡便でしかも迅速に精度良く行う。【解決手段】高分子材料に含まれる添加剤の違いによって光の吸収率や反射率が異なる波長を含む近赤外線を用いて測定することにより、添加剤の違いに関する情報を含む近赤外線スペクトルのデータが得られ、この近赤外線スペクトルのデータに対して、コンピュータを用いたデータ解析が容易なケモメトリックスにおけるデータ解析手法を適用することにより、近赤外線スペクトルのデータから高分子材料に含まれる添加剤の違いに関する情報が抽出され、このデータ解析手法で取得された情報に基づいて、高分子材料に含まれる添加剤の違い又は添加量を識別する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

分析対象の高分子材料について近赤外線の波長領域における近赤外線スペクトルを測定し、この近赤外線スペクトルのデータに対してケモメトリックスにおけるデータ解析手法を適用し、該データ解析手法で取得された情報に基づいて該高分子材料に含まれる添加剤の定性分析及び定量分析のどちらか一方又は両方を行うことを特徴とする高分子材料中の添加剤分析方法。

IPC (1)：

G01N21/35

FI (1)：

G01N21/35 Z

F-Term (14)：

2G059AA01 ,  2G059BB08 ,  2G059CC12 ,  2G059DD01 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059EE12 ,  2G059FF10 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ30 ,  2G059MM01 ,  2G059MM02 ,  2G059MM03