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J-GLOBAL ID：200903099461391941

球状シリカ粒子の製造方法

Inventor： 原 幸伸 ,  桂 正彦 ,  井上 好明 ,  川嵜 一博 ,  横田 誠二
Applicant, Patent owner： 日東化学工業株式会社 ,  高周波熱錬株式会社
Agent (1)： 大城 重信 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993095135
Publication number (International publication number)：1994287012
Application date： Mar. 31, 1993
Publication date： Oct. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】 粒径0.03mm〜2.0mmの球状シリカ粒子を、容易に効率良く、しかも低コストで経済的に製造する。【構成】 珪酸質原料は、プラズマトーチ2により形成される熱プラズマフレーム中を通過する間に溶融しながら落下して行き、プラズマフレームの温度域範囲を離脱後は保温塔3内を冷却されながら落下することによって、形状は球状となる。球状シリカ粒子の粒径は、分級された珪酸質原料の粒度対応し、プラズマフレームの通過時間を調整することで調節が可能であり、従来得ることが困難であった粒径が10μm以上、とりわけ粒径0.03mm〜2.0mmの大きい球状シリカ粒子を容易に得ることができる。

Claim (excerpt)：

珪酸質原料を高周波熱プラズマ中を通過させて溶融させることにより、粒径0.03mmから2.0mmの範囲の球状シリカ粒子を生成させることを特徴とする球状シリカ粒子の製造方法。