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J-GLOBAL ID：200903099480720280

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

Inventor： 橋本 進 ,  原 通子 ,  與田 博明 ,  大沢 裕一 ,  堀 昭男 ,  小沢 則雄 ,  坂久保 武男 ,  小泉 隆
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 外川 英明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996254075
Publication number (International publication number)：1998105921
Application date： Sep. 26, 1996
Publication date： Apr. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】トラック幅Wt、及び磁気ギャップ長Lgを微細にかつ高い再現性をもって量産可能な薄膜磁気ヘッド及びその製造方法。【解決手段】本発明は、下部磁気コア上に非磁性膜を形成し、絶縁膜の媒体対向面(ABS面)を含む磁極端領域に溝を形成し、少なくとも溝の内表面に磁気ギャップを形成し、溝の内部及び前記コイル絶縁膜上に上部磁気コアを形成する工程を具備する。このように絶縁膜に溝を形成した後に磁気ギャップを形成することで、トラック幅Wtを最小加工寸法よりも狭くすることが可能であり微細化に適する。又、溝側壁にエッチングによる表面荒れが発生しても、磁気ギャップにより平滑化されるので、記録トラックが従来よりも鮮明に得られる。さらに又、ギャップ長の再現性に優れた磁気ギャップが得られる。

Claim (excerpt)：

後部領域及び磁極端領域を備える第1の磁極層と、前記第1の磁極層の後部領域に絶縁膜を介して形成された磁気コイルと、この磁気コイルを覆うコイル絶縁膜と、前記第1の磁極層の磁極端領域に溝を備える非磁性膜と、前記溝の側壁面及び底面に形成された磁気ギャップと、前記磁気ギャップが形成された前記溝の内部及び前記コイル絶縁膜上に形成された第2の磁極層であり、前記後部領域にて前記第1の磁極層と接続される第2の磁極層とが備えられたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-256208
  
• 薄膜磁気書込みヘッド及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-012264   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 特開昭62-256208