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J-GLOBAL ID：200903099496792442

高分散、高疎水性球状シリカ微粉体、その製造方法及び用途

Inventor：
八代 尚作

About 八代 尚作

, 
渡辺 祥二郎

About 渡辺 祥二郎


Applicant, Patent owner：
電気化学工業株式会社

About 電気化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002232339
Publication number (International publication number)：2004067475
Application date： Aug. 09, 2002
Publication date： Mar. 04, 2004
Summary：
【課題】BET比表面積10〜50m2/gの球状シリカ粉末を高疎水性かつ高分散性に処理すること。トナー表面への粒子の埋没による画像不良をなくし、安定した印字性改善効果を与えることができるトナー外添剤を提供すること。【解決手段】BET比表面積10〜50m2/gの球状シリカ粉末がヘキサメチルジシラザンによって疎水化処理されてなるものであって、メタノール滴定法による疎水化度が65%以上で、ゆるめ嵩密度が0.25g/cm3以下であることを特徴とする高分散、高疎水性球状シリカ微粉体。球状シリカ粉末をガスで浮遊させた状態で、水の特定量を噴霧した後、更にヘキサメチルジシラザンの特定量を噴霧することを特徴とする上記高分散、高疎水性球状シリカ微粉体の製造方法。上記高分散、高疎水性球状シリカ微粉体からなることを特徴とする静電荷像現像用トナーの外添剤。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
BET比表面積10〜50m2/gの球状シリカ粉末がヘキサメチルジシラザンによって疎水化処理されてなるものであって、メタノール滴定法による疎水化度が65%以上で、ゆるめ嵩密度が0.25g/cm3 以下であることを特徴とする高分散、高疎水性球状シリカ微粉体。
IPC (3)：
C01B33/18 ,  G03G9/08 ,  G03G9/087
FI (3)：
C01B33/18 C ,  G03G9/08 375 ,  G03G9/08 381
F-Term (18)：
2H005AA08 ,  2H005AB02 ,  2H005CA26 ,  2H005CB13 ,  2H005EA07 ,  2H005EA10 ,  4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB07 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072QQ07 ,  4G072RR11 ,  4G072TT04 ,  4G072TT06 ,  4G072TT30 ,  4G072UU30
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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