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J-GLOBAL ID：200903099566273855

薄膜積層多孔質セラミックス中空糸の製造法

Inventor：
秋山 重雄

About 秋山 重雄


Applicant, Patent owner：
エヌオーケー株式会社

About エヌオーケー株式会社


Agent (1)： 吉田 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994079356
Publication number (International publication number)：1995256065
Application date： Mar. 25, 1994
Publication date： Oct. 09, 1995
Summary：
【要約】【目的】 多孔質セラミックス中空糸内にシリカゾルを流入接触後、乾燥、焼成して得られる多孔質セラミックス中空糸の気体分離膜性能を一段と向上せしめたものを製造する方法を提供する。【構成】 多孔質セラミックス中空糸内にシリカゾルを流入接触後、乾燥、焼成させて得られた多孔質セラミックス中空糸基材を、シリカゾル中に浸漬させ、引き上げた後、乾燥、焼成して、薄膜積層多孔質セラミックス中空糸を製造する。
Claim (excerpt)：
多孔質セラミックス中空糸内にシリカゾルを流入接触後、乾燥、焼成させて得られた多孔質セラミックス中空糸基材を、シリカゾル中に浸漬させ、引き上げた後、乾燥、焼成することを特徴とする薄膜積層多孔質セラミックス中空糸の製造法。
IPC (5)：
B01D 71/02 500 ,  C04B 38/00 303 ,  D01D 5/24 ,  D01F 1/08 ,  D01F 8/00
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)

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