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J-GLOBAL ID：200903099570280688

反射防止膜組成物及びこれを用いたパターンの製造法

Inventor： 粕谷 圭 ,  橋本 通晰
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995100854
Publication number (International publication number)：1996292562
Application date： Apr. 25, 1995
Publication date： Nov. 05, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ホトレジストプロセスの工程数を増やすことなく、かつレジストの感度の低下を伴うこともなく、簡便なプロセスでパターン寸法精度を向上させうる反射防止膜組成物及びこれを用いたパターンの製造法を提供すること。【構成】 ポリ(ビニルピロリドン)系樹脂、フッ素系水溶性界面活性剤及び水溶性フッ素化合物を含有する反射防止膜組成物並びに基板1上にレジスト膜2を形成する工程、レジスト膜に所定のパターンを露光する工程及び露光後前記レジストを現像する工程を含むパターンの製造法において、露光前にレジスト膜上に前記の反射防止膜組成物を用いて反射防止膜3を形成する工程を含むことを特徴とするパターンの製造法である。

Claim (excerpt)：

ポリ(ビニルピロリドン)系樹脂、フッ素系水溶性界面活性剤及び水溶性フッ素化合物を含有する反射防止膜組成物。

IPC (4)：

G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/30 574