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J-GLOBAL ID：200903099611248638

プラズマ生成装置

Inventor： 片山 克生
Applicant, Patent owner： 住友金属工業株式会社
Agent (1)： 井内 龍二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994216232
Publication number (International publication number)：1996083695
Application date： Sep. 09, 1994
Publication date： Mar. 26, 1996
Summary：

【要約】【構成】 少なくとも1か所に誘電体板よりなる高周波導入用窓14を有する金属製の反応容器15と、この反応容器15外部の高周波導入用窓14に近接して配設された帯状コイル11aと、帯状コイル11aに高周波電力を供給する高周波電源が接続されている回路とを備えたプラズマ生成装置において、コイルが逆向き2重螺旋形状であるプラズマ生成装置。【効果】 従来のプラズマ生成装置の場合のような帯状コイルの中心の真下の位置における特異点は生じず、帯状コイル11aの下部の全面にわたって均一なプラズマを形成することができ、半導体基板等の均一なエッチングが可能になる。また、生成したプラズマは試料基板W方向に対して非常に低いエネルギーをもっているので、試料基板Wへのダメージを極めて小さくすることができる。

Claim (excerpt)：

少なくとも1か所に誘電体板よりなる窓部を有する金属製の反応容器と、該反応容器外部の前記窓部に近接して配設されたコイルと、該コイルに高周波電力を供給する高周波電源が接続されている回路とを備えたプラズマ生成装置において、前記コイルが逆向き2重螺旋形状であることを特徴とするプラズマ生成装置。

IPC (5)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (2)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 C