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J-GLOBAL ID：200903099626645773

膜厚測定方法

Inventor： 寺田 慎一
Applicant, Patent owner： 株式会社テクノス研究所
Agent (1)： 西教 圭一郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997125947
Publication number (International publication number)：1998318737
Application date： May. 15, 1997
Publication date： Dec. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】 X線反射率法と蛍光X線法との組合せによって、測定精度を維持しつつ、膜厚の測定範囲を大幅に拡大できる膜厚測定方法を提供する。【解決手段】 まず未知試料uと同種の物質で構成され、X線反射率法によって膜厚測定可能な標準試料cを用意し、次にX線反射率法を用いて標準試料cのX線反射率曲線を計測し、該曲線の干渉周期から膜厚Tcを、該曲線の全反射臨界角度から薄膜の密度ρcをそれぞれ測定し、次に蛍光X線法を用いて標準試料cの蛍光X線強度Fcを測定し、次に標準試料cの感度係数α(=Fc/(ρc・Tc))を算出し、次にX線反射率法を用いて未知試料uのX線反射率曲線を計測し、該曲線の全反射臨界角度から薄膜の密度ρuを測定し、次に蛍光X線法を用いて未知試料uの蛍光X線強度Fuを測定し、未知試料uの膜厚Tu(=Fu/(α・ρu))を算出する。

Claim (excerpt)：

基板上に薄膜が形成され、薄膜の膜厚および密度が未知で、基板および薄膜の構成物質が既知である未知試料uの膜厚測定方法であって、未知試料uと同種の物質で構成され、X線反射率法によって膜厚測定可能な標準試料cを用意する工程と、X線反射率法を用いて、X線入射角度の変化に対する標準試料cのX線反射率曲線を計測し、該曲線の干渉周期から膜厚Tcを、該曲線の全反射臨界角度から薄膜の密度ρcをそれぞれ測定する工程と、蛍光X線法を用いて、標準試料cの蛍光X線強度Fcを測定する工程と、標準試料cの感度係数αを次式(1)から算出する工程と、 α = Fc/(ρc・Tc) ...(1)X線反射率法を用いて、X線入射角度の変化に対する未知試料uのX線反射率曲線を計測し、該曲線の全反射臨界角度から薄膜の密度ρuを測定する工程と、蛍光X線法を用いて、未知試料uの蛍光X線強度Fuを測定する工程と、未知試料uの膜厚Tuを次式(2)から算出する工程と、 Tu = Fu/(α・ρu) ...(2)を含むことを特徴とする膜厚測定方法。

IPC (3)：

G01B 15/02 ,  G01N 23/207 ,  G01N 23/223

FI (3)：

G01B 15/02 D ,  G01N 23/207 ,  G01N 23/223