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J-GLOBAL ID：200903099631191926
ガス測定装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
野口 繁雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999184667
Publication number (International publication number)：2001013099
Application date： Jun. 30, 1999
Publication date： Jan. 19, 2001
Summary：
【要約】【課題】 再現性を低下させることなく測定間隔を短縮する。【解決手段】 120秒間、酸化物半導体装置を備えたセンサセルにサンプルガスを供給する(予備測定)。360秒間、センサセルにゼロガスを供給する。酸化物半導体センサの電気抵抗値は上昇し、準安定ベース抵抗値Rbに近づく。その後、60秒間、サンプルガスをセンサセルに供給すると準安定ピーク抵抗値Rsが得られる(実測定)。実測定での準安定ベース抵抗値Rbと準安定ピーク抵抗値Rsに基づいて定量測定を行なう。
Claim (excerpt)：
1つ又は複数の酸化物半導体センサが配置されたセンサ部と、前記センサ部に酸素を含むゼロガスを供給するゼロガス供給手段と、前記センサ部にサンプルガスを供給するサンプルガス供給手段と、前記センサ部にサンプルガスを供給した後、そのサンプルガスの履歴が残っている間に続けて同じサンプルガスを前記センサ部に供給するように前記サンプルガス供給手段の動作を制御する制御部と、を備え、1回目のサンプルガス供給後のサンプルガス供給停止時のベース抵抗値と2回目以降のサンプルガス供給時のピーク抵抗値に基づいて定量測定を行なうことを特徴とするガス測定装置。
IPC (3)：
G01N 27/12
, G01N 1/00
, G01N 1/00 101
G01N 27/12 A
, G01N 1/00 C
, G01N 1/00 101 S
2G046AA01
, 2G046AA11
, 2G046AA13
, 2G046AA19
, 2G046AA21
, 2G046AA28
, 2G046BG02
, 2G046DC04
, 2G046EB01
