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J-GLOBAL ID：200903099682100488

光学素子の作製方法・光学素子・光ピックアップ・光ディスク装置

Inventor： 清澤 良行
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (2)： 樺山 亨 ,  本多 章悟
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002241794
Publication number (International publication number)：2004078091
Application date： Aug. 22, 2002
Publication date： Mar. 11, 2004
Summary：

【課題】作製が容易で小型化・低コスト化に寄与でき、且つ、膜劣化等の問題も解消できる光学素子を提供する。【解決手段】基板に光源の波長より十分小さい周期構造を形成した後、該基板の屈折率を変える。例えば、石英ガラス製の基板3上にEBレジスト5を塗布する(a)。EB描画装置でパターンを描画し、現像する(b)。Crなどの金属膜6を真空蒸着で成膜し、レジスト剥離液によるリフトオフ法で金属膜パターンを形成する(c)。金属膜パターンを形成した基板3をCF4やC4F8、CHF3などのフロロカーボンガスを用いてドライエッチングを行い(d)、微細な周期構造4を形成し、金属膜を除去する(e)。最後に、周期構造4にボロンBをドープして1/4波長板が完成する(f)。【選択図】 図3

Claim (excerpt)：

基板に光源の波長より十分小さい周期構造を形成して複屈折特性を付与してなる光学素子において、 上記基板に上記周期構造を形成した後、該基板の屈折率を変えることを特徴とする光学素子の作製方法。

IPC (2)：

G02B5/30 ,  G11B7/135

FI (2)：

G02B5/30 ,  G11B7/135 A

F-Term (43)：

2H049BA07 ,  2H049BA45 ,  2H049BB42 ,  2H049BC01 ,  2H049BC08 ,  2H049BC21 ,  2H049BC25 ,  5D119AA01 ,  5D119AA32 ,  5D119AA38 ,  5D119BA01 ,  5D119BB02 ,  5D119BB03 ,  5D119EA02 ,  5D119EA03 ,  5D119EC35 ,  5D119FA05 ,  5D119FA32 ,  5D119JA14 ,  5D119JA15 ,  5D119JA32 ,  5D119JA43 ,  5D119JA64 ,  5D119KA02 ,  5D119NA05 ,  5D789AA01 ,  5D789AA32 ,  5D789AA38 ,  5D789BA01 ,  5D789BB02 ,  5D789BB03 ,  5D789EA02 ,  5D789EA03 ,  5D789EC35 ,  5D789FA05 ,  5D789FA32 ,  5D789JA14 ,  5D789JA15 ,  5D789JA32 ,  5D789JA43 ,  5D789JA64 ,  5D789KA02 ,  5D789NA05