Pat
J-GLOBAL ID:200903099700232036

アンモニア処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997129611
Publication number (International publication number):1998314548
Application date: May. 20, 1997
Publication date: Dec. 02, 1998
Summary:
【要約】【課題】火力発電所処理設備,し尿処理設備,下水道処理設備,食品製造設備,コークス炉製造設備等の排ガスに含有するアンモニアおよび窒素酸化物を効率よく分解処理するアンモニア処理装置の提供。【解決手段】アンモニアおよび酸素および水蒸気を含有する排ガス1を、前段および後段からなる二段触媒層で処理するアンモニア処理装置において、前段触媒層3の触媒がTiおよびAgを含み、かつ、Fe,Mn,Zn,Mo,V,Wの一種以上を含み、後段触媒層6の触媒がTiおよびMo,Wの一種以上を含み、前段触媒層出口ガス中のアンモニアおよび窒素酸化物濃度を検出する濃度センサ4,5を有し、該濃度センサの出力に基づき、窒素酸化物の濃度からアンモニア濃度を差し引いた値が所定の濃度範囲になるように、前段触媒層の温度を制御する制御手段を備えたアンモニア処理装置。
Claim (excerpt):
アンモニアおよび酸素および水蒸気を含有する排ガスを、前段および後段からなる二段触媒層で処理するアンモニア処理装置において、前段触媒層の触媒がTiおよびAgを含み、かつ、Fe,Mn,Zn,Mo,V,Wの一種以上を含み、後段触媒層の触媒がTiおよびMo,Wの一種以上を含み、前段触媒層出口ガス中のアンモニアおよび窒素酸化物濃度を検出する濃度センサを有し、該濃度センサの出力に基づき、窒素酸化物の濃度からアンモニア濃度を差し引いた値が所定の濃度範囲になるように、前段触媒層の温度を制御する制御手段を備えたことを特徴とするアンモニア処理装置。
IPC (3):
B01D 53/86 ZAB ,  B01J 23/28 ,  B01J 23/745
FI (3):
B01D 53/36 ZAB E ,  B01J 23/28 A ,  B01J 23/74 301 A

Return to Previous Page