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J-GLOBAL ID：200903099708036104

真空蒸着装置

Inventor： 宮井 清一 ,  佐々木 良成
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 松隈 秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993013829
Publication number (International publication number)：1994228740
Application date： Jan. 29, 1993
Publication date： Aug. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】 蒸着源の上部に設けられたノズルに蒸着物質が付着することを防いで、比較的長時間の蒸着を可能とし、また形状の制御性良く蒸着を行い得る真空蒸着装置を提供する。【構成】 蒸着物質の入った蒸着源1を加熱して蒸着物質を蒸発させることにより、真空中で被蒸着物に蒸着物質を蒸着させる真空蒸着装置において、蒸着源1の上部に蒸気流を噴出するノズル2を設け、蒸着源1及びノズル2を同時または別々に加熱する加熱手段3を有する構成とする。

Claim (excerpt)：

蒸着物質の入った蒸着源を加熱して蒸着物質を蒸発させることにより、真空中で被蒸着物に蒸着物質を蒸着させる真空蒸着装置において、上記蒸着源の上部に蒸気流を噴出するノズルが設けられ、上記蒸着源及び上記ノズルを同時または別々に加熱する加熱手段を有することを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (2)：

C23C 14/24 ,  G11B 5/85

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特公昭60-015698
  
• 特公平1-060546
  
• 特開昭63-238264