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J-GLOBAL ID:200903099715543445

化合物及びこれらの化合物を使用して液晶ポリマーを製造する方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中平 治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998128024
Publication number (International publication number):1998310612
Application date: Apr. 03, 1998
Publication date: Nov. 24, 1998
Summary:
【要約】【目的】 良好な取扱い可能住で大きい変化幅及び組成の良好な制御を可能にする化合物、これらの化合物の製造方法及びこれらの化合物に基いて液晶ポリマーを製造する方法を提供する。【構成】 一般式C-Amの化合物であつて、m≧2であり、m=2の場合Cは一般式CnH2nの残基であり、m>2の場合有枝及び多官能残基であら、Aは一般式Y-B-Mの同じ又は異なる残基であり、ここでYは重合可能な残基を意味し、Bは一般式CnH2nの同じ又は異なる残基、Mは一般式-R1-X1-R2-X2-R3-X3-R4を持ち、ここでR1,R2,R3,R4は同じ又は異なる2共有結合残基であり、X1,X2,X3は同じ又は異なる残基である。これらの同じ又は異なる化合物を残基Yの重合により架橋し、これらの化合物を使用して液晶ポリマーを製造する。
Claim (excerpt):
一般式C-Amの化合物においてm≧であり、m=2の場合cが一般式C2H2nの残基であり、この残基におけるnが1ないし40の整数であり、1つ又は複数のメチレン基が酸素原子により置換可能であるか、又は1つ又は複数の水素原子が1つないし20の炭素原子を持つアルキル基又はアルコオキシ基により置換可能であり、m>2の場合cが多官能残基であり、かつオリゴ酸化プロピレン、オリゴ酸化ブチレン、4ないし40の炭素原子を持つ有枝アルキル、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリツト、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサントリオール、2つ又はそれ以上のカルボキシル基を持つ芳香族カルボン酸、及び2つ又はそれ以上の水酸基を持つフエノールから成る群から選ばれているか、又はCがこれらの化合物の1つ又は複数及び/又は一般式CnH2nの残基から成る組成物であり、この一般式においてnは1ないし40の整数であり、1つ又は複数のメチレン基が酸素原子により置換可能であり、Aが一般式Y-B-M-の同じ又は異なる残基であり、ここでYは重合可能な残基を意味し、Bは一般式CnH2nの同じ又は異なる残基であり、この一般式においてnは0ないし20の整数であり、1つ又は複数のメチレン基が酸素原子により置換可能であり、Mは一般式R1-X1-R2-X2-R3-X3-R4-を持ち、ここでR1,R2,R3,R4は、-O-,-COO-,CONH-,-CO-,-S-,-C≡C-,-CH=CH-,-CH=N-,-CH2-,-N=N-及び-N=N(O)の群から成る同じ又は異なる2共有結合残基を意味し、R2-X2-R3,X3-R4又はR2-X2-R3-X3はC-C結合であってもよく、X1,X2,X3は、1,2-;1,3-;1,4-フエニレン、1,4シクロヘキサン、B1,B2及び/又はB3で置換されたアリルアルカン又はO,N,Sの群から成る1ないし3個のヘテロ原子を含むヘテロアリルアルカン、アリル核中の6ないし10個の原子によりかつB1,B2及び/又はB3で置換されかつ3ないし10個の炭素原子を持つシクロアルキレンの群から成る同じか又は異なる残基であり、ここでB1,B2及びB3は、-H,線状又は有枝C1ないしC20アルキル、C1ないしC20アルコオキシ、C1ないしC20アルキルチオ、C1ないしC20アルキルカルボニル、C1ないしC20アルコオキシカルボニル、C1ないしC20アルキルチオカルボニル、-OH,-F,-Cl,-Br,-J,-CN,-NO2,シクロアルキル、フオルミル、及びエーテル酸素、チオエーテル硫黄又はエステル基により中断されかつ1ないし20個の炭索原子を持つ線状又は有枝アルキル、アルコオキシ又はアルキルチオ残基の群から成る同じ又は異なる置換基であつてもよい、コレステリツク液晶ポリマー中のネマチツク相としての化合物。
IPC (5):
C08F 16/26 ,  C08F 20/30 ,  C08G 59/20 ,  C08G 73/00 ,  C09K 19/00
FI (5):
C08F 16/26 ,  C08F 20/30 ,  C08G 59/20 ,  C08G 73/00 ,  C09K 19/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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