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J-GLOBAL ID：200903099728596726

フッ化窒素排ガスの除害装置

Inventor： 斎藤 喜二 ,  川端 博 ,  宮本 圭之 ,  佐枝 学
Applicant, Patent owner： 岩谷産業株式会社
Agent (1)： 北谷 寿一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991063939
Publication number (International publication number)：1993277341
Application date： Mar. 04, 1991
Publication date： Oct. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 プラズマCVD装置をフッ化窒素でクリーニングする場合などにおいて、排ガス中に含有されるフッ化窒素を簡便且つ安価に除害処理する。【構成】 フッ化窒素に対して反応性を有するシリコン、チタン、ゲルマニウムなどの反応性処理剤を充填した乾式反応器12を排気系3のうちの排気ポンプ7の上手側に配置することにより、フッ化窒素を反応器に送給するだけで簡便且つ安価に除害し、装置全体をコンパクトにまとめられる。

Claim (excerpt)：

プラズマ処理チャンバー(1)の排気系(3)に排気ポンプ7及び除害装置(12)を設け、プラズマ処理チャンバー(1)から排気系(3)に排出されるフッ化窒素排ガスを除害装置(12)で除害処理するフッ化窒素排ガスの除害装置において、上記除害装置(12)がフッ化窒素に対して反応性を有するシリコン、チタン、ゲルマニウム、炭素などの反応性処理剤を充填した乾式反応器であり、当該反応器(12)をチャンバー(1)と排気ポンプ(7)との間に介装したことを特徴とするフッ化窒素排ガスの除害装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-237929
  
• 特公昭63-048570
  
• 特開昭61-061619