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J-GLOBAL ID:200903099753223454
2,5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾールのフェノール系誘導体
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992216597
Publication number (International publication number):1993213914
Application date: Jul. 23, 1992
Publication date: Aug. 24, 1993
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 潤滑組成物中において耐摩耗性添加剤及び酸化防止剤として有効なチアジアゾール化合物のフェノール系誘導体を提供する。【構成】 式(I),(II),(III)で表わされるフェノール系1,3,4-チアジアゾール化合物、それらの製造方法及びこれらの化合物群から選ばれた化合物を含む潤滑油組生物。[式中Rは水素、テルペン残基、C20〜200の重合体残基又はコハク酸残基を表わし;R1はH,C1〜17アルキル、(置換)フェニルを;R2,R4はH,OH,アルキルを;R3,R5はアルキルを表わし;n=1,2である]
Claim (excerpt):
次の構造式、(a)【化1】[式中、Rは水素、テルペン残基、20〜200個の炭素原子を有する重合体残基及び式【化2】のコハク酸残基を表わし、R1 は水素、C1 〜C17アルキル、フェニル及びアルキル基によって置換されたフェニルを表わし、R2 及びR4 は水素、ヒドロキシ及びアルキル基を表わすが、但しR2 又はR4 のどちらかはヒドロキシであるものとし、R3 及びR5 はアルキル基であり、R6 は水素、アルキル及びシクロアルキル基を表わす]、(b)【化3】[式中、n=1〜2、Rは水素、テルペン残基、重合体残基、先に記載の如きコハク酸残基及び式【化4】のフェニル基を表わし、そしてR1 ,R2 ,R3 及びR5 は先の意味を有する]、及び(c)【化5】[式中、R,R1 ,R2 ,R3 及びR4 は先の意味を有する]を有する化合物の群から選択されるフェノール系1,3,4-チアジアゾール化合物。
IPC (6):
C07D285/125
, C10M135/36
, C10N 30:06
, C10N 30:10
, C10N 40:25
, C10N 50:10
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