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J-GLOBAL ID：200903099846826078

X線回折測定方法及びX線回折測定装置

Inventor： 山本 直樹
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 薄田 利幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994145226
Publication number (International publication number)：1996015184
Application date： Jun. 28, 1994
Publication date： Jan. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】LSIや磁気デバイスにおける微小部の深さ方向と面内の歪分布を正確かつ効率良くもとめつる。【構成】被測定試料に連続X線ビームを照射し、回折X線の輝度-エネルギ分布5(無歪層による分布1と歪層による分布6が重畳したもの)を求め、分布5の歪層による分布6が重畳していない領域4の分布から無歪層による分布1をもとめ、分布5から分布1を差引き分布6を求め、測定された回折X線の輝度-エネルギ布6からX線照射域内に存在する歪層と無歪層の格子面間隔を分離して求めるとともに、エネルギ分布形状のX線照射角依存性より深さ方向の歪分布を求める。

Claim (excerpt)：

測定すべき試料を搭載する試料台と、連続X線を上記試料の表面に対して所望の角度から照射するX線照射手段と、上記所望の射角における上記試料から放射される回折X線を検出する検出器と、上記検出器の信号から、空間分布又はエネルギを得る信号処理手段を有し、かつ上記検出器を3次元的に移動可能で、かつ試料上のX線照射位置を中心に回転可能とするする駆動手段と、上記試料内の所望結晶格子面が上記試料へ照射するX線と上記回折X線とから形成される平面に垂直で、上記試料の表面のX線の照射位置に対して上記格子面が上記平面に対して垂直を保持した状態で回転可能なように試料台が構成されたことを特徴とするX線回折測定装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭52-088086
  
• 特開昭53-027091
  
• 特開昭49-119686