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J-GLOBAL ID：200903099858414050
陰極スパッタリングとマイクロ波照射によるプラズマ発生装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 弘男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993237344
Publication number (International publication number)：1994220632
Application date： Aug. 30, 1993
Publication date： Aug. 09, 1994
Summary：
【要約】【目的】 陰極スパッタリングとマイクロ波照射によってプラズマを発生させるための装置を提供することである。【構成】 本装置は、マグネトロン陰極を具備し、その大気圧側には空洞共振器が配置されている。装置の真空側には横方向の境界を画している1対の遮蔽用シートが配置され、これらの遮蔽用シートの内側にはマグネトロン陰極のターゲットの表面に直角な磁界を発生させる磁石が設けられている。
Claim (excerpt)：
プラズマ領域と、このプラズマ領域内にあって、電源に接続されている電極に接続されているターゲットと、磁界が前記ターゲットから出て再びその中へ入るようにするマグネトロンと、平行な遮蔽用シートを前記ターゲットの表面に対して直角に設け、導波管を介して前記ターゲットの前面のこれらの遮蔽用シートの間の領域内にマイクロ波を送信するマイクロ波送信機とを具備し、前記遮蔽用シートに実質的に平行に伸びる磁界を発生する磁石を前記遮蔽用シート上に設けたことを特徴とする陰極スパッタリング及びマイクロ波照射によるプラズマ発生装置。
IPC (4)：
C23C 14/35
, C23C 16/50
, H01J 37/34
, H05H 1/24
