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J-GLOBAL ID:200903099866782549

撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 塩澤 寿夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991055987
Publication number (International publication number):1993215905
Application date: Feb. 27, 1991
Publication date: Aug. 27, 1993
Summary:
【要約】【目的】 光学部材に耐水性に優れた撥水性薄膜を形成する方法及び耐水性に優れた撥水性薄膜を有する光学部材を提供する。【構成】 n-CF3CH2CH2Si(NH2)3 等の単位式 Cp F2p+1CH2CH2Si(NH)1.5(ただし、pは1以上の整数である)で表される有機ケイ素化合物を真空下、加熱蒸発させ、光学基板上に付着させて、この光学基板上に薄膜を形成することを含む、薄膜を有する光学部材の製造方法。上記有機ケイ素化合物を用いて真空蒸着法により形成した薄膜を有する光学部材。特に、薄膜の屈折率が1.30〜1.37であり、かつ膜厚が1〜50オングストロームである光学部材。
Claim (excerpt):
下記単位式(I):Cp F2p+1CH2CH2Si(NH)1.5(ただし、pは1以上の整数である)で表わされる有機ケイ素化合物を真空下、加熱蒸発させ、光学基板上に付着させて、この光学基板上に薄膜を形成することを含む、薄膜を有する光学部材の製造方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開昭60-221470
  • 特開昭63-296002
  • 特開平2-197801
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