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J-GLOBAL ID：200903099882024204

スパッタ装置

Inventor： 亀井 光浩 ,  瀬戸山 英嗣 ,  梅原 諭 ,  清野 知之 ,  大野 康則
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 富田 和子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992019220
Publication number (International publication number)：1993214528
Application date： Feb. 04, 1992
Publication date： Aug. 24, 1993
Summary：

【要約】【目的】透明導電膜用ターゲットの表面の黒色化物を、短時間で、基板に影響を与えることなく取り除くことができ、安定した膜質のITO膜を、高い装置稼働率で成膜することができるスパッタ装置を提供する。【構成】真空容器と、該真空容器内に配置された、基板を保持する基板ホルダと、ターゲットを保持するターゲットホルダとを有するスパッタ装置において、前記真空容器中で、前記ターゲットの表面を処理するためのイオンビームを照射するイオン源をさらに有することを特徴とするスパッタ装置。

Claim (excerpt)：

真空容器と、該真空容器内に配置された、基板を保持する基板ホルダと、ターゲットを保持するターゲットホルダとを有するスパッタ装置において、前記真空容器中で、前記ターゲットの表面を処理するためのイオンビームを照射するイオン源をさらに有することを特徴とするスパッタ装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平1-225772
  
• 特開昭63-195264
  
• 特公平3-068111
  

Cited by examiner (3)

• 特開平3-270840
  
• 特開平1-225772
  
• 特開昭63-195264